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  • PVD鍍膜靶材 - 1-1
PVD鍍膜靶材

說明:
PVD是英文Physical Vapor Deposition,指在真空條件下,用物理性的電漿或電弧方式,使鍍膜材料沉積在被鍍工件上的薄膜製作技術。

功能:
應用於車刀具、模具、機器/儀器元件、汽車、航太元件、醫療零件及裝飾 等。

範圍:
以濺鍍靶材、陰極電弧靶材為主。

特性:
採用PVD鍍膜技術鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特質,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀耐用性能。
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